• PDMS芯片

    PDMS作為一種高分子有機硅化合物。具有光學(xué)透明良好的化學(xué)惰性,且在一般情況下,被認為是惰性,無(wú)毒,不易燃,光學(xué)透性好,成本低等特點(diǎn)。

    PDMS(聚二甲基硅氧烷)是最廣泛使用的硅為基礎的有機聚合物材料,成為一種廣泛應用于微流控等領(lǐng)域的聚合物材料。其運用包括在生物微機電中的微流道系統、填縫劑、潤滑劑、隱形眼鏡等。

    PDMS材質(zhì)本身具有的高透明、彈性、透氣及良好的化學(xué)惰性,重復性強等特點(diǎn),非常適合用于微流控相關(guān)的科研實(shí)驗,如細胞培養,藥物篩選以及細胞捕獲等相關(guān)生物化學(xué)實(shí)驗;材質(zhì)本身疏水性, 可通過(guò)化學(xué)或物理方法進(jìn)行靈活改性消除如細胞非特異性吸附等。

    PDMS氧化

    使用等離子體的PDMS氧化改變PDMS表面化學(xué)并在其表面上產(chǎn)生硅烷醇終止(SiOH)。這有助于使PDMS親水30分鐘左右。該方法還有助于使得PDMS表面抵抗疏水性和帶負電荷的分子的吸附。另外,PDMS等離子體氧化用于用三氯硅烷功能化PDMS表面或通過(guò)形成Si-O-Si鍵在氧化玻璃表面上以原子級共價(jià)鍵合PDMS。

    無(wú)論PDMS表面是否被等離子氧化,它都不允許水,甘油,甲醇或乙醇滲透和連續變形。因此,可以將PDMS與這些流體一起使用而不用擔心微結構變形。然而,PDMS在二異丙胺,氯仿和醚類(lèi)溶液存在下會(huì )變形和溶脹,在丙酮,丙醇和吡啶存在下有較小程度上的變形和膨脹 - 因此,PDMS對于許多有機化學(xué)應用來(lái)說(shuō)不是理想的選擇。

           PDMS芯片屬軟質(zhì)芯片,外力磕碰不易碎裂,但易受試劑污染,不易清洗,重復利用率低,常作為一次性芯片使用。

    聚二甲基硅氧烷(PDMS)性能:

    · 良好的機械性能

    · 240至1100 nm的出色光學(xué)透明性

    · 生物相容性和無(wú)毒

    · 高透氣性

    · 復制模制簡(jiǎn)單

    · PDMS的疏水性(水接觸角?108°±7°)

    · PDMS使用環(huán)境:PDMS可以在-50-200攝氏度條件下長(cháng)期使用。

    工藝能力

    ?最小通道寬度:5μm

    ?最小圓柱直徑:10μm(如果模具為凹坑,則PDMS深寬比不能超過(guò)1:1)

    ?最小相鄰通道間距:20μm

    ?最小通道高度:10μm

    ?可辨認最小特征尺寸:2μm

    ?通道高度:△h=±5%通道高度

    ?高度特征的精度:±5%通道高度

    ?通道側壁垂直度:±3°。

    PDMS微孔陣列加工(圓形方形陣列可做微柱或者微孔)、PDMS96孔板加工、PDMS薄膜: 薄膜厚度50-500um,厚度誤差2%。

    PDMS通道清洗:

    通常情況下,在進(jìn)行實(shí)驗之前,需要對使用的溶劑進(jìn)行過(guò)濾,尤其是芯片的通道小于20 μm,以防止芯片通道被溶劑中的較大夾雜物堵塞。

    當進(jìn)行完實(shí)驗后,可以使用較大的推進(jìn)力把實(shí)驗試劑推出芯片外,然后在儲液池中加入與試劑互溶的液體,利用推進(jìn)力把液體推進(jìn)芯片,在芯片的出口端能夠看到幾滴液體流出。然后,使用去離子水沖洗芯片通道;最后,再使用空氣/氮氣/氧氣/氬氣等氣體沖洗芯片通道,便可把芯片通道沖洗干凈。

    芯片清洗方法的選擇由芯片內殘留物種類(lèi)決定。如PDMS芯片中有機殘留常用乙醇清洗,再用去離子水清洗并烘干,無(wú)機殘留直接去離子水清洗并烘干即可;玻璃芯片化學(xué)耐受能力強,可根據殘留物種類(lèi)選擇合適的清洗試劑,但應避免氫氟酸腐蝕;PMMA芯片可耐受無(wú)機弱酸堿類(lèi)試劑,嚴禁使用有機化學(xué)試劑清洗。芯片清洗時(shí)應避免使用較大流速進(jìn)行沖洗,以免對芯片造成損傷。

    提高PDMS粘合品質(zhì):

    1.通常在80-90°C的溫度下烘烤15-30分鐘即可產(chǎn)生良好的粘合力。

    2.在大多數情況下,室內空氣等離子體將非常有效。

    3.去除PDMS表面灰塵等顆粒物。


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